苏大维格董事长陈林森获“发明创业奖•人物奖”特等奖

2020年7月29日，第十四届“中国发明家论坛”暨第十一届“发明创业奖·人物奖”颁奖典礼在中国科技会堂举办。苏大维格（股票带码：300331）集团董事长陈林森获中国发明协会颁发的第十一届“发明创业奖•人物奖”特等奖并被授予“当代发明家”称号。

公开资料显示，“发明创业奖”是2005年由国家科技部批准中国发明协会设立，是为发明家设立的国家最高奖项。获奖候选人由各省市区发明协会和中国发明协会理事等推荐，经过专家初审、终审、网上公示，最终有100位获奖者脱颖而出，其中15位特等奖被授予“当代发明家”荣誉称号，以表彰他们的发明创新成果为行业发展做出突出贡献。

多年来，苏大维格集团董事长陈林森带领团队通过产学研深度融合，在微纳光学、微纳制造、柔性光电子材料与器件、全息与衍射光学元件等领域，推动全链条一体化创新，打通基础研究、技术创新和成果转化的机制障碍，做出了一系列具有开拓性、变革性的成果，在国内外广泛应用。陈林森三次获国家科技进步二等奖，并获“庆祝中华人民共和国成立70周年纪念章”（中共中央、国务院、中央军委颁发），致力于在微纳科技领域成为敢于创新创业、形成行业影响的开拓者、探索者和贡献者。

在陈林森的领导下，苏大维格致力于微纳装备、核心技术和功能材料器件的研发、制造和产业应用，是柔性光电子与智能制造领域的平台型企业，已发展成为1总部+1研发中心+6个控股子公司的集团企业。为了适应柔性光电子产品的快速研发需要，苏大维格打造了“模块化、知识密集、可升级和快速配置”的微纳光制造创新平台，具有国际领先科研及生产水平。

值得注意的是，苏大维格在新型光刻设备的研发上也有所突破。7月28日，苏大维格官方宣布，全球首台大型紫外3D直写光刻设备iGrapher3000下线并投入工业运行。iGrapher3000主要用于大基板上的微纳结构形貌的3D光刻，是新颖材料、先进光电子器件的设计、研发和制造的全新平台。

据了解，iGrapher3000为新颖光电子材料与功能器件的研究和产业创新，开辟了新通道。主要用于大尺寸光电子器件、超构表面材料、功能光电子器件等在内的微纳形貌和深结构的制备，包括大尺寸透明电路图形、高精度柔性触控传感器、高亮投影屏、全息3D显示、MiniLED电路背板、高光效匀光板、虚实融合光子器件、大口径透明电磁屏蔽材料等。iGrapher3000也可用于平板显示产业和柔性电子产业的光掩模制备，并为高精度大口径薄膜透镜的设计制备提供了战略研发资源。

苏大维格表示，iGrapher3000的运行，为集团公司及战略合作单位，在新型光电子材料/器件、新型显示和传感领域的产业合作，提供关键支撑，已与多家行业头部企业建立战略合作关系。目前，苏大维格新型光刻设备在企业和高等院所广泛应用，有望解决我国多个领域研究中的卡脖子问题，为我国新型光电子器件、新材料、MEMS芯片和传感器件的研发提供自主可控的先进手段。