《新闻联播》关注光刻胶技术难题，晶瑞股份携手姑苏实验室开展联合攻关

近日，据央视新闻联播报道，在苏州工业园区材料科学姑苏实验室，来自全国的十几位材料领域研究人员，正围绕苏州一家企业提出的光刻胶技术难题，开展联合攻关。

据悉，姑苏实验室是江苏省重点科创实验室，总投资200个亿，实验室瞄准国家战略需求和苏州未来产业发展方向，汇聚全球科技人才，解决产业发展中的卡脖子问题。虽然成立不到一年，但是实验室已经在高端材料生长系统、人工智能材料大数据、光谱成像芯片三个方向取得重要进展。

创新是企业核心竞争力的源泉，很多核心技术是求不到、买不来的。众所周知，光刻机被誉为半导体制造业皇冠上的明珠，是发展国产芯片的关键技术。而光刻胶作为生产芯片的关键材料、高值耗材产品，目前主要被日本、美国企业垄断，成为我国存在着的一大难题。

科技如何自立自强？“卡脖子”的核心技术如何突破？这一方面需要顶层设计支持，另一方面也需要从事实体经济的企业勇于投入科研攻关。在光刻胶领域，这一趋势越来越明显，特别是近年来我国芯片产业开始高速发展，对于光刻胶的需求就更加明显了。

据知情人士透露，上述提及的携手姑苏实验室联合公关光刻胶技术难题的苏州企业正是晶瑞股份。据介绍，晶瑞股份是国内最早实现光刻胶规模量产的领先企业，公司致力于打造微电子材料企业联合体，突破中国半导体关键卡脖子材料。目前，公司生产的负胶已完全实现国产替代，国市占有率达70%以上，i线光刻胶批量供应S公司、长鑫等主流半导体厂。

2021年1月19日，晶瑞股份经多方协商、积极运作顺利购得的ASML XT 1900 Gi型光刻机，运抵苏州并成功搬入公司高端光刻胶研发实验室。市场人士分析称，此举有助于公司将光刻胶产品序列实现到ArF光刻胶的跨越，并最终实现应用于12英寸芯片制造的战略布局。

有数据显示，2019年我国g线/i线光刻胶的自给率仅有20%，KrF光刻胶自给率不足5%，ArF光刻胶则完全依赖进口，作为高值耗材的产品，我国每年都需要从海外大量进口光刻胶，这显然是不利于国内半导体产业发展的情况。

晶瑞股份表示，目前公司已完成中试的KrF光刻胶已进入客户测试阶段，达到0.15μm的分辨率。后续，公司将继续加强科研攻坚，提升关键设备的技术先进性，加快产品研发项目，以科技自立自强支撑实业的发展。相信，只要中国企业能够脚踏实地地干下去，就必定可以打破海外的技术封锁，实现半导体产业完全自主。