镓仁半导体完成数千万天使轮融资

杭州镓仁半导体有限公司成立于2022年9月，是一家专注于氧化镓等超宽禁带半导体单晶衬底及外延材料研发、生产和销售的科技型企业。公司开创了非导模法氧化镓单晶生长新技术，突破了国际市场对氧化镓材料的垄断，可提供具有完全自主知识产权的氧化镓单晶衬底材料。公司创始团队源自浙江大学硅材料国家重点实验室和浙江大学杭州国际科创中心。目前，公司已形成一支以中科院院士为首席顾问的研发和生产团队，将持续为我国电力电子等产业的发展提供材料保障。

随着2018年特斯拉采用碳化硅（SiC）、2020年小米在快充上使用氮化镓开始，宽禁带材料碳化硅、氮化镓获得市场认可迎来发展机遇，并逐渐从新能源车、消费电子等热门场景向更多拓展场景探索。在宽禁带半导体发展得如火如荼之际，氧化镓、氮化铝、金刚石等超宽禁带半导体材料也开始受到关注。其中，氧化镓( Ga2O3 )是被国际普遍关注并认可已开启产业化的超宽禁带半导体材料。据日本富士经济预测，未来10年氧化镓及器件的年复合增长率将超过50%，在高功率、高电流、高压器件领域拥有巨大优势，同时在中压功率器件及射频器件方面将对目前SiC，GaN和Si IGBT产生有力竞争，其在节能、性能改善、体积缩小等方面拥有核心优势。

高质量、低成本的氧化镓单晶衬底是整个产业链的关键，目前全球只有一家公司可稳定供货，其采用的是导模法生产和制备氧化镓衬底。然而由于导模法需要大量的铱金属，氧化镓晶圆价格高居不下；同时导模法存在大的温度梯度，使得氧化镓的质量难以进一步提升，严重阻碍了其器件的迭代研发。镓仁半导体开创了新的氧化镓单晶生长技术，在成本控制、尺寸放大、质量提升以及智能制造等方面具有极其明显优势，有望推动氧化镓材料和器件产业的发展。

镓仁半导体创始人张辉表示，由于对电力高效使用的迫切需求，我国功率器件及材料产业将迎来更加快速的发展。镓仁半导体团队经过多年的攻关，已掌握从设备开发、热场设计、晶体生长、晶体加工、外延生长等全套的关键技术，有望破解氧化镓材料的“卡脖子”难题。